金属表面处理真空镀膜电导率<1mΩ・cm选ITO吗？

2025-12-15

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2025-12-15

华升纳米金属表面处理实测：ITO膜厚250nm时电阻率≈0.4mΩ·cm，可满足<1mΩ·cm要求；TiN虽硬度高，但同厚度电阻率约2mΩ·cm，且颜色偏金，不适合透明导电需求。工艺上，ITO采用RF磁控溅射，氧分压0.4Pa，基板150℃，沉积速率40nm·min⁻¹，20min即可得250nm，片间均匀性±3%。华升纳米金属表面处理已在触摸屏边框、EMI屏蔽罩批量应用，电导率稳定在0.35-0.45mΩ·cm，可见光透过率>85%，实现透明高导电金属表面处理批量生产，为客户提供低电阻、高透光的金属表面处理解决方案，保障金属表面处理长期稳定可靠。

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