钛硅靶型号「江阴典誉新材料供应」

（2）金属靶材与化合物靶材本来溅射速率就不一样，一般情况下金属的溅射系数要比化合物的溅射系数高，所以靶中毒后溅射速率低。（3）反应溅射气体的溅射效率本来就比惰性气体的溅射效率低，所以反应气体比例增加后，综合溅射速率降低。 5、靶中毒的解决办法 ...

碲化铅靶图片「江阴典誉新材料供应」

磁控溅射镀膜中出现膜层不良的表现有哪些，如何改善？ 1.脱膜主要表现：点状/片状膜层脱落 原因分析：杂质附着，清洗残留，真空室脏，脏污、油斑、灰点、口水点， 膜层局部附着不良等。 改善：加强清洗，加强烘烤，环境管控（清洁干燥），对于多层膜系，底层须与基材匹配（...

Te靶材图片「江阴典誉新材料供应」

氧化物镀膜技术在真空镀铝膜中的应用 近年来，迅速发展微波加热技术给微波食品包装及需经微波杀 菌消毒的一类商品的包装提出了新的要求，即包装材料不要具有优良的阻隔性能，而且还要耐高温、微波透过性好等特性，传统的包装材料很难具备这些特点。因此，近年来日本、德国、美国...

南京锰酸锂靶型号「江阴典誉新材料供应」

但下列情况绑定有弊端： 1.熔点低的靶材，像铟、硒等，金属化的时候可能会变软变形； 2.贵金属靶材，一是实际重量易出现分歧，二是金属化以及解绑的时候都会有浪费料，建议垫一片铜片。 三.背靶的选择 对材质的要求：一般选用无氧铜和钼靶，...

南京二硼化铬靶材型号「江阴典誉新材料供应」

抛光片部分310的厚度均匀。所述抛光片第三部分330的厚度均匀。位于所述固定板200弯折处的所述抛光片300的厚度不均，即所述抛光片第二部分320的厚度不均。 抛光片部分310的厚度与所述抛光片第三部分330的厚度相等，均为2mm～3mm。 抛...

成都钆靶材调试「江阴典誉新材料供应」

真空技术中的清洁处理 (一)概述 真空技术清洁处理一般指的是真空装置的结构材料、填装材料和真空零(部)件的清洁处理。去除或减少污染物将有利于获得良好真空，增加连接强度和气密性，提高产品的寿命 和可靠性。 (二)污染物的几种类型 ①油脂:加工、安装和操作时...

苏州氧化铅靶材作用「江阴典誉新材料供应」

非晶硅薄膜的制备方法 非晶硅薄膜的制备方法有很多，如低压化学气相沉积(LPCVD)，等离子体增强化学气相沉积(PECVD)，直流(射频)磁控溅射等。生长多晶硅薄膜的方法有：化学气相沉积包括低压化学气相沉积(LPCVD)、大气压强化学气相沉积(APCVD)、...

氮化硼靶功能「江阴典誉新材料供应」

2、钯 靶材 99.99%‍ 常规尺寸：φ50*1mm；φ60*3mm；φ76.2*4mm等，尺寸可定做 3、电镜钯片常规尺寸：φ57*0.1mm；φ57*0.2mm；φ58*0.1mm；φ58*0.2mm 4、钯 箔片 99.99% 常规尺寸：100*10...